PlasmaMS 300仪器组成与工作原理
ICP-MS全称电感耦合等离子体质谱（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模块：进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、四级杆质量分析系统、离子检测及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
图2.1 PlasmaMS 300型结构示意图
其工作原理是：待测样品通过进样系统进入离子源部分，在被 ICP射频电源离子化后，在接口及离子传输系统中通过聚焦、消除干扰后进入四极杆质量分析器，在其中离子将按照质荷比（m/z）大小被分开，经过聚焦后，达到检测器。检测器将不同质荷比的离子流通过接收、测量及数据处理转换成电信号经放大、处理后得到分析结果。
2.2 主机部件
仪器主机的主要部件有：进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、四级杆质量分析系统、离子检测及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
进样系统包含蠕动泵、进样管排样、雾化器、雾室、玻璃弯管、炬管；
ICP离子源包括包含功放箱、匹配箱；
接口单元包括接口、水腔、提取透镜；
离子传输系统包括π透镜、碰撞反应池、透镜组；
四级杆质量分析系统包括四级杆、馈入件；
离子检测及数据采集系统主要包括电子倍增器、电子倍增器支架；
真空系统包括机械泵、2个分子泵、真空腔体、潘宁规；
整机控制系统包含各种控制电路模块。
2.3 辅助装置
智能温控冷却循环水箱是重要的辅助装置，它冷却接口、线圈、离子源和分子泵。
稳压电源是能为负载提供稳定交流电的电子装置。当电网电压或负载出现瞬间波动时，稳压电源会以10ms~30ms的响应速度对电压幅值进行补偿，使其稳定在±2%以内。

PlasmaMS 300在金属工业领域的应用
痕量元素含量的变化对材料性能和生产控制有巨大影响。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的条件下精确测定痕量元素，使用跳峰扫模式可以避 免主量元素、其氧化物、其双电荷、其氢化物等的干扰，选择同位素时应注意避免基体离 子干扰。
应用领域：
在研发和专业化学应用领域有较广的范围 高纯陶瓷和化学品
金属和玻璃 产品纯度验证

PLASMAMS 300 在不同行业的应用与干扰
地质样品通常难以消解。相比之下，激光消融几乎不需要任何样品制备，仅仅 需要将样品切至适合激光消融池的大小。
在这一领域中，样品多种多样，质谱分布范围很广，因此此类应用为广泛和复杂。在单 个矿物或样品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金属含量，又需要进行同位 素信息扫描。
由于在这类样品中存在着大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在这类地质样品中 常见的干扰就是氧化物干扰和双电荷干扰。
应用领域:
岩石稀土分析和岩石消解 激光消融分析矿物
同位素比例研究地球及外来物质的原始和进化 水沉积物和地下水

PlasmaMS 300同位素选择
有的元素只有一种同位素，因此被称为单同位素元素。大多数的元素都有多种同位素供 选。.
多同位素元素(Multi-isotopic)
• Copper(Cu), selenium(Se), lead(Pb), mercury(Hg), erbium(Er), ytterbium(Yb), lutetium(Lu)
单同位素元素(Mono-isotopic)
• Beryllium(Be), sodium(Na), aluminum(Al), manganese(Mn), cobalt(Co), arsenic(As), bismuth(Bi), holmium(Ho), thulium(Tu)
当需要从多个供选同位素中选择合适的同位素来对目标元素进行分析的时候，可以从以 下几个方面进行考虑：
例如: 1.灵敏度或动态线性范围是考虑的主要因素吗?
如果需要优先考虑灵敏度的话，绝大多数情况下，挑选相对丰度比的同位素是正确的
选择。如果有的样品中目标元素浓度高，有的目标元素浓度低，彼此之间浓度差异很大， 那么此时就需要优先考虑扩展该元素的动态线性范围，此时应当选择相对丰度比较小的同 位素来进行检测。
2.你的样品中是否包含了会造成干扰的大量元素？ 有的时候，选择丰度比的同位素反而达不到降低检出限的目的，因为样品基体成分中 可能含有别的干扰元素，对目标同位素造成了同位素干扰或多原子分子干扰。此时选择另 一个虽然丰度比相对低一些但是不受干扰的同位素来进行测量才是正确的。基体干扰中比
较常见的是氧化物干扰。基体中的干扰同位素形成氧化物后，会直接影响质量数比它大
16的同位素的测定结果。